众所周知，在尖端制程芯片制造领域，荷兰ASML的极紫外（EUV）光刻系统一直居于垄断地位。然而，一家来自挪威的初创公司——Lace Lithography，正试图用一种全新的原子光刻（BEUV）技术来挑战这一格局。
根据路透社的最新报道，Lace于当地时间周一表示，该公司已筹集4000万美元资金，用于开发能够超越EUV光刻机的原子光刻（BEUV）技术。
原子光刻优势突出
Lace的核心技术被称为原子光刻，或BEUV（Beyond Extreme Ultraviolet，超越极紫外光刻）。与传统EUV光刻使用13.5nm波长光束不同，Lace采用的是氦原子束进行光刻——其宽度仅约0.1nm，相当于单个氢原子的尺寸。这也意味着，该技术拥有着极高的分辨率。
Lace表示：“通过使用原子束代替光，我们为芯片制造商提供了领先当前技术15年的能力，而且成本更低、能耗更低”。
比利时微电子研究中心（imec）光刻技术科学总监John Petersen也评价称，氦原子束技术可将晶体管等关键元件的尺寸缩小一个数量级，达到“几乎难以想象”的程度。
此外，与传统EUV系统需要复杂的光学掩模和反射镜不同，原子光刻技术可以实现直接的无掩模图案化。Lace的BEUV系统加工过程不使用化学试剂，具有更低的能耗和物料消耗。
另据Atomico披露，Lace通过自研的AI驱动算法，还将相关原子光刻计算速度提升了超过15个数量级。
获得4000万美元融资
Lace 成立于2023年7月，总部位于挪威卑尔根，由卑尔根大学教授Bodil Holst（现任CEO）与在该校获得博士学位的Adria Salvador Palau（现任CTO）共同创立，后者目前在西班牙巴塞罗那运营。公司运营中心遍布挪威、西班牙、英国和荷兰。团队由来自世界各地的 60 多位物理学家、工程师和操作员组成。
在Lace成立之初，就获得了约45万欧元的种子轮融资，投资方包括Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures以及欧洲创新委员会等机构。
随后，Lace还获得了多个欧盟资助项目的支持：
NanoLACE（2019-2024年）：获得336万欧元资助；
FabouLACE（2023年12月-2026年11月）：由欧洲创新委员会提供250万欧元预算，目标是基于色散力掩模开发氦原子光刻技术，可实现2nm工艺。
欧盟委员会还授权Lace在2031年前将该技术推向市场，其性能将由imec进行监测和验证。
2026年3月23日，Lace宣布完成4000万美元A轮融资，由伦敦风投公司Atomico领投，微软旗下风险投资机构M12、Linse Capital、西班牙技术转型协会以及挪威国家投资公司Nysnø参与跟投。公司未透露具体估值。
Lace首席执行官Bodil Holst表示，这项技术有望拓展芯片制造的路线图，实现“原本不可能实现的功能”。更小的晶体管和其他芯片特征将使芯片制造商能够将先进AI处理器的性能提升至远超当前的水平，实现“最终的原子级分辨率”。
目前，Lace已开发出原型系统，并计划在2029年将其测试工具部署于一家试点晶圆厂。
不过，从实验室原型到晶圆厂量产工具，Lace还需要跨越良率、产能和成本等多重考验。但对于长期依赖EUV技术的半导体制造商来说，Lace至少打开了另一条通1纳米以下更先进制程的可能路径。
编辑：芯智讯-浪客剑
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